苹果屏下Face ID新专利获批 多种设计方案被曝光！
时间:2025-01-28 01:01:47 出处:百科阅读（143）
根据国外科技媒体PatentlyApple报道，苹果屏下批多曝光苹果公司近日在欧洲市场获得了一项新专利，新专展示了多种屏下FaceID解决方案。利获
苹果在专利中解释，以iPhone为代表的计方电子设备可以在多个非像素区域（non-pixelregions）包含多个传感器。
每个非像素区域会移除薄膜晶体管和其他显示组件，从而让光线通过，苹果屏下批多曝光提高屏幕到传感器的新专透射率。
从18A到18F均为苹果设计的屏下FaceID解决方案，设置不同的种设非像素区域
苹果在专利中表示可以将摄像头隐藏在屏幕的特定区域内，在18F描述中，计方非像素区域可以覆盖到整个屏幕。案被
苹果屏下批多曝光
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